合肥市集成电路生产用超纯水设备50T

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上海
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一、集成电路生产用超纯水设备概述

  集成电路生产用超纯水设备依据集成电路用水需求,采用反渗透技术和EDI技术相结合,经过反渗透技术过滤掉水中的大部分杂质,再经过EDI深度处理,完全去掉水中的导电离子,出水电阻率可以达到18兆欧以上,完全满足集成电路生产用水需求。

二、集成电路生产用超纯水设备工作原理

  供给原水进入EDI系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿膜板外侧流动,以洗去透出膜外的离子,SHU脂截留水中的容存离子,被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动,阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外,阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外,浓缩了的离子从废水流路中排出,无离子水从树脂/膜内流出。


  三、集成电路生产用超纯水设备工艺流程

  自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压→PH值调节系统→高效混合器精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

四、集成电路生产用超纯水设备特点

  该系统由单片机(PLC)控制,一切动作均在预设程序下自动进行,具备全自动功能(自动制水、自动冲洗、原水缺水/水箱满水自动停机)。

  系统结构布置紧凑,占地面积小,有效节约空间。

  系统能耗低,有效节约能源。

  耗材寿命长,制水成本低廉。

  系统运行可靠,供水管路封闭,出水水质稳定。

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